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基于0.13μm工艺的低电压CMOS场效应管输出电导 被引量:1

Output conductance of 0.13μm MOSFET
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摘要 对采用0.13μm工艺(p13)低电压工作条件下的CMOS模拟集成电路设计中场效应管的模型参数输出电导gd进行了研究,给出了设计公式。根据所研究的结果设计了一个两级运算放大器电路并进行了仿真。仿真结果与设计结果吻合得很好,证明了设计公式的有效性。 The output,gd,of MOSFET in CMOS 0.13 μm technology and working in very low voltage was investigated,and design formulas were given.Based on the investigation results,a two-stage op-amp was designed and simulation was carried out.Simulation results are in good agreement with designing results,which validate the design formulas.
出处 《吉林大学学报(工学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第1期229-233,共5页 Journal of Jilin University:Engineering and Technology Edition
基金 国家自然科学基金项目(60875015) 西北师范大学知识与科技创新工程项目(NWUN-KJCXGC-03-24)
关键词 半导体技术 集成电路 0.13μm工艺 CMOS场效应管 输出电导 semiconductor very large integated circuit(VLIC) 0.13 μm technology MOSFET output conductance
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参考文献1

二级参考文献4

同被引文献6

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