Entegris新的分析方法延长先进光学光刻的寿命

下载PDF

导出

摘要 Entegris公司介绍了一种新的解决方案,能够精确测量和控制在先进半导体光刻过程中引起污染的挥发性有机化合物。如果不加控制,这些低分子量、含硅物质或有机化合物(如TMS)已被证明影响248纳米和193纳米曝光工具,并可能导致敏感和昂贵的光学元件永久性损坏。

出处《集成电路应用》 2009年第4期12-12,共1页 Application of IC

关键词光学光刻 Entegris 低分子量分析方法

1铁树.冬天笔记本使用五大“忌”[J].电脑知识与技术（过刊）,2006,13(1):67-67.
2三星PX2370液晶显示器[J].家用电器,2010(6):18-18.
3CCS800：气体传感器[J].世界电子元器件,2014,0(7):28-28.
4刘冲.冬季使用笔记本电脑的五大禁忌[J].计算机与网络,2006,32(22):7-7.
5孙再吉.纳米器件超高分辨率光刻胶的开发[J].半导体信息,2004,0(2):32-33. 被引量：1
6王磊,张金艺.VDMOS正向偏压安全工作区的界定与优化[J].微电子学,2011,41(5):751-754. 被引量：2
7Withings Home不只是摄像头[J].计算机应用文摘,2014,0(19):75-75.
8初凤红,庞拂飞,韩秀友,耿健新,蔡海文,瞿荣辉,方祖捷.溶胶-凝胶光波导环形谐振腔的挥发性有机化合物传感特性[J].中国激光,2007,34(2):229-233. 被引量：4
9CCS800系列低功耗微型环境传感器[J].传感器世界,2014,20(6):51-51.
10章从福.纳米器件超高分辨率光刻胶的开发[J].半导体信息,2004,0(4):36-36.

集成电路应用

2009年第4期

浏览历史

内容加载中请稍等...