日本Elpida公司采用50nm工艺研发的SDRAM
出处
《半导体信息》
2009年第3期15-,共1页
Semiconductor Information
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1卜基桥.融入中国制造业——访斯来福临中国销售总监梅麒先生[J].现代制造,2005(6):14-14.
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2孙再吉.Elpida公司量产40 nm工艺DRAM[J].半导体信息,2010,0(3):14-14.
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3章从福.合力发展国产半导体装备产业[J].半导体信息,2010,0(6):1-2.
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4章从福.上海国家级集成电路研发中心建12英寸中试线[J].半导体信息,2008,0(4):8-8.
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5莫大康.中国半导体产业须抓住机遇[J].电子工业专用设备,2010(6):61-61.
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6孙再吉.Elpida公司采用TSV技术开发8层芯片[J].半导体信息,2010,0(2):9-10.
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7章从福.中芯国际获0.13微米关键生产设备[J].半导体信息,2004,0(3):42-42.
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8江兴.32纳米工艺研发进入日程[J].半导体信息,2007(5):15-16.
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9张敏.用资本运作提升产品核心竞争力[J].商界名家,2005(4):104-104.
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10与航空企业进行全面合作[J].航空制造技术,2009,52(20):97-97.
