澳大利亚研制纳米电子束曝光系统是制作微小纳米电了元件的最佳设备
出处
《半导体信息》
2009年第5期38-,共1页
Semiconductor Information
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1刘明,陈宝钦,王云翔,张建宏.Nano-Level Electron Beam Lithography[J].Journal of Semiconductors,2003,24(1):24-28.
-
2澳大利亚研制纳米电子束曝光系统[J].大众科技,2009(11):9-10.
-
3澳大利亚研制纳米电子束曝光系统[J].化工科技市场,2009,32(10):64-64.
-
4纳米电子束曝光系统[J].光学精密机械,2009(3):2-2.
-
5澳大利亚研制纳米电子束曝光系统[J].激光与光电子学进展,2009,46(11):10-10.
-
6澳大利亚研制纳米电子束曝光系统[J].现代科学仪器,2009(5):109-109.
-
7澳大利亚研制纳米电子束曝光系统[J].企业技术开发(下半月),2009(11):140-140.
-
8澳大利亚研制纳米电子束曝光系统[J].中国科技投资,2009(10):12-12.
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9那兆凤.国外微型扫描电子束曝光技术进展[J].电工电能新技术,1995,14(1):12-17.
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10澳大利亚研制纳米电子束曝光系统是制作微小纳米电子元件的最佳设备[J].光学仪器,2009,31(5):77-77.