中国制版光刻与微/纳米加工技术的发展历程回顾与现状被引量：6

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摘要　　中国的微光刻技术(包括光掩模制造技术和光刻技术)伴随着平面工艺技术的诞生逐渐发展起来,从1965年自主成功地研制出硅平面晶体管开始算起到2005年是我国集成电路诞生和发展的四十年,也是我国微光刻技术诞生和发展的四十年.大体上可以按年代划分成如下几个阶段:……

作者陈宝钦

机构地区中国科学院微电子研究所

出处《微细加工技术》 2006年第1期1-2,共2页 Microfabrication Technology

关键词平面晶体管半导体技术历程回顾光刻技术半导体制造科技发展规划封锁条件应用物理计算机系列纳米加工

同被引文献72

1汪建华,徐德,刘云,赵晓光,王秀青,谭民.基于四象限探测器的掩模版对准检测与控制[J].传感技术学报,2007,20(5):1188-1192. 被引量：3
2曹国荣,李东立,许文才,武军.印刷制版原理的剖析[J].包装工程,2009,30(7):164-166. 被引量：4
3谢常青,朱效立,牛洁斌,李海亮,刘明,陈宝钦,胡媛,史丽娜.微纳金属光学结构制备技术及应用[J].光学学报,2011,31(9):243-250. 被引量：21
4折昌美,李璟.从ASML和Nikon专利诉讼案例看国产光刻设备知识产权建设[J].科技和产业,2020,20(10):135-142. 被引量：1
5黄翔宇,马协力,金焱骅.高集成度多标记光刻版版图的快速处理技术[J].电子技术应用,2022,48(9):67-69. 被引量：1
6黄翔宇,纪宝林,马协力.高集成度复杂光刻版版图的快速巡查与修正技术[J].电子工业专用设备,2023,52(5):29-35.

1余节约,田培娟.PS版晒版曝光量的控制[J].包装工程,2010,31(23):89-91.
2罗芳林.包装设计师与特种工艺的融合[J].美与时代（创意）（上）,2010(12):94-96.
3罗芳林.包装设计师与特种工艺的融合[J].新乡学院学报,2010,27(6):65-66.
4王向贤,汪波,傅强,陈漪恺,胡继刚,张斗国,明海.均匀辐照365nm LED光源设计及其在光刻中的应用[J].中国激光,2012,39(4):214-217. 被引量：5
5刘仁臣,吴永刚,夏子奂,唐平林,梁钊铭.亚微米AZO光栅及其漫透射分布特性[J].光学学报,2012,32(7):281-286. 被引量：1
6王俊,王昊,应鹏,金仲和.四象限差动式模拟太阳敏感器设计[J].传感技术学报,2012,25(12):1659-1663. 被引量：12
7杜宇禅,李海亮,史丽娜,李春,谢常青.32nm节点极紫外光刻掩模的集成研制[J].光学学报,2013,33(10):320-326. 被引量：9
8彭博方,陆海亮,王帆,许琦欣,侯文玫.基于二维周期结构衍射的套刻测量技术研究[J].激光与光电子学进展,2014,51(2):88-93. 被引量：1
9付杰,王晓华,李金华,方铉,魏志鹏.硬X射线聚焦波带片的设计及制作[J].光电工程,2014,41(3):7-12.
10丁功明,齐月静,卢增雄,卢荣胜,周培松.亚波长金属单狭缝填充金属条的聚焦特性研究[J].激光与光电子学进展,2014,51(6):167-171.

微细加工技术

2006年第1期

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