提高辐射剂量计用金刚石膜电学性能的研究

Improvement in the Electrical Properties of Diamond Films for Radiation Dosimeter

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摘要针对目前金刚石膜存在电阻率低,使辐射剂量计器件的信噪比不大、X光灵敏度较低的问题,采用优化的氧等离子体和氮等离子体对生成膜进行原位后处理.结果表明:氧等离子体处理比氮等离子体更能有效的刻蚀石墨等非金刚石成分;处理后样品生成膜的电阻率可提高至少4个数量级;优化的等离子体处理工艺能提高金刚石膜对X射线的响应.

作者廖晓明冉均国苟立苏葆辉张进王兵

机构地区四川大学

出处《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2005年第z2期755-758,共4页 Rare Metal Materials and Engineering

基金国家自然科学基金资助项目(10275046)

关键词金刚石薄膜等离子体原位后处理电学性能辐射剂量计

分类号 TB43 [一般工业技术] O484 [理学—固体物理]

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参考文献8

1[1]Buttar C M et al. Diamond andRelated Materials[J], 2000, (9):965
2[2]Bruzzi M et al. Nucl Instr and Meth in Phys Res A[J], 2002,485:172
3[3]Fidanzio A et al. Nucl lnstr and Meth in Phys Res A[J], 2002,479:661
4[4]Jung M et al. Nucl Instr and Meth in Phys Res A[J], 2003, 511:417
5[7]Kazushi Hayashi et al. AppliedPhysics[J], 1997, 81(2): 744
6[8]Gennady S G et al. Proceedings of IEEE [J], 1991, 79(5): 647
7[9]Jany C et al. Diamond and Related Materials[J], 1998, (7):951
8[12]Jany C et al. Diamond and Related Materials[J], 1996, (5): 741

1张进,冉均国,苟立,苏葆辉,廖晓明,徐明星.循环刻蚀工艺对金刚石膜形貌和电阻率的影响[J].电子元件与材料,2005,24(3):7-9.
2Anna V.Krivosheeva,Victor L.Shaposhnikov,Victor E.Borisenko,Jean-Louis Lazzari,Chow Waileong,Julia Gusakova,Beng Kang Tay.Theoretical study of defect impact on two-dimensional MoS_2[J].Journal of Semiconductors,2015,36(12):18-23. 被引量：1
3张进,冉均国,苟立,苏葆辉,廖晓明,王兵.金刚石薄膜纯度、取向性与辐射剂量计性能的关系[J].稀有金属材料与工程,2005,34(z2):751-754.
4廖晓明,冉均国,苟立,苏葆辉,张进,何子博.形核工艺对金刚石膜形貌和电阻率的影响[J].真空,2005,42(3):11-14. 被引量：1
5廖晓明,冉均国,苟立,张进,苏葆辉,林江莉.金刚石薄膜取向性和后处理对其X辐射响应性能的影响[J].硅酸盐学报,2006,34(7):801-804.
6廖晓明,冉均国,苟立,张进,苏葆辉.薄膜型金刚石辐射剂量计的光电性能[J].四川大学学报（工程科学版）,2005,37(5):102-106. 被引量：2
7史建君,赵小俊,沈伟桥,孙志明.^(60)Co辐照装置γ辐射场剂量分布的测量及分析[J].浙江农业大学学报,1998,24(2):153-157. 被引量：2
8新技术与成果[J].中国金属通报,2001,0(36):20-20.
9张东平,张大伟,范树海,赵元安,邵建达,范正修.氧等离子体处理对氧化锆薄膜性质的影响[J].光学技术,2005,31(2):224-226. 被引量：1
10李卫青,顾广瑞,李英爱,何志,冯伟,刘丽华,赵春红,赵永年.氢、氧等离子体处理对氮化硼薄膜场发射特性的影响[J].功能材料,2004,35(z1):2196-2198.

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