期刊文献+

物理气相法制备AlN晶体

Growth of AlN Crystals by PVT
下载PDF
导出
摘要 研究了物理气相法制备AlN晶体的过程中生长条件的改变对晶体生长的影响.实验中,采用带石墨环的坩埚组件可以避免高温下钨坩埚体和盖的粘结问题.随着生长温度的升高,AlN晶体的形态从晶须过渡到棱形晶粒.温度高于1950℃时,才能制备出颗粒状.AlN晶体.同时,研究了过饱和压对晶体生长的影响.目前,已经制备出直径为1mm的高质量的六棱柱形的.AlN单晶,最大的单晶体的直径达2mm.
出处 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第z1期263-266,共4页 半导体学报(英文版)
基金 国家自然科学基金(批准号:60376003,60576005),广东省自然科学基金(批准号:04011297),教育部科技研究基金(批准号:[2005]3号)和深圳市科技计划(批准号:200517)资助项目
  • 相关文献

参考文献5

  • 1[1]Slack G A,Mcnelly T F.Growth of high purity AlN crystals.J Cryst Growth,1976,34:263
  • 2[2]Liu B,Edgar J H,Gu Z,et al.The durability of various crucible materials for aluminum nitride crystal growth by sublimation.MRS Internet Journal of Nitride Semiconductor Research,2004,9:6
  • 3[3]Schlesser R,Dalmau R,Zhuang D,et al.Crucible materials for growth of aluminum nitride crystals.J Cryst Growth,2005,281:75
  • 4[4]Mokhova E N,Avdeev O V,Barasha I S,et al.Sublimation growth of AlN bulk crystals in Ta crucibles.J Cryst Growth,2005,281:93
  • 5[5]Epelbaum B M,Bickermann M,Winnacker A,et al.Sublimation growth of bulk AlN crystals:process temperature and growth rate.Mater Sci Forum,2004,457:1537

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部