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ARC工艺技术研究

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摘要本文介绍了应用于金属互联工艺的 ARC(抗反射层或防反射层)技术。通过对抗反射层基本原理的说明,结合工艺实验,深刻地理解 ARC 技术。最后给出了可以用于0.5 μm 工艺生产的ARC 结构及用于衡量 ARC 性能的参数。

作者温万良周林

机构地区无锡微电子科研中心二室

出处《电子与封装》 2002年第5期27-31,共5页 Electronics & Packaging

关键词 ARC 光刻抗反射

分类号 TN405.91 [电子电信—微电子学与固体电子学]

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电子与封装

2002年第5期

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