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0.4～0.25μm时代的平坦化技术

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摘要从亚微米进人到1/4μm时代,VLSI工艺中的平坦化技术与其它的微细加工技术一起被广泛采用.

作者益民

出处《电子与封装》 2002年第5期55-60,共6页 Electronics & Packaging

关键词平坦化绝缘膜曝光机光刻设备光刻胶膜

分类号 TN305.94 [电子电信—物理电子学]

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电子与封装

2002年第5期

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