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中国知识产权法律体系中的新成员——《集成电路布图设计保护条例》

A New Component of the IP Legal System in China——On Regulations for the Protection of Layout-design of Integrated Circuits
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摘要 《集成电路布图设计保护条例》将于2001年10月1日起实行。到目前为止,中国国家知识产权局仍在紧锣密鼓地制订该条例的实施细则,预计今年10月1日出台并与该条例同时施行。该条例出台后,将成为我国知识产权法律体系中的新成员。
作者 罗宏
出处 《中国专利与商标》 2001年第4期70-74,共5页 China Patents & Trademarks
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