摘要
我是怀着对『自作诗词书法展』的兴趣,于二○一○年三月四日到中国美术馆去参观的.陈文增我并不熟悉,但是随着欣赏的深入,我似乎有一种似曾相识的感觉,因为这样一种书写状态,是我很长一段时间来所追寻的:优秀的帖学一路的作品我看到不少,也推荐过不少;但是碑学一路的作品,虽然很多,但是能上水平的却很少见到,特别是专题『自作诗词』的几乎没有过.而陈文增的作品让我们看到了碑学书法的高度,同时回答了这个高度是如何产生的.
出处
《中国书法》
CSSCI
北大核心
2011年第7期121-123,共3页
Chinese Calligraphy
