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论集成电路布图设计之法律保护
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摘要
研制一个由1200个晶体管组成的集成电路,需花费50万美元和二至三年的时间,而复制这种集成电路只需花3万美元和三至六个月时间.对这种需投入大量的人、财、物来研制开发,却又极易被复制的智力劳动成果,世界各国的法律是如何加以保护的呢?我国法制将采取何种行动呢?请看本刊“法学论坛”栏目的《论集成电路布图设计之法律保护》一文.
作者
黄国民
机构地区
上海市高级人民法院
出处
《法律适用》
1996年第7期18-20,3,共4页
Journal of Law Application
关键词
集成电路布图设计
半导体芯片
反向工程
晶体管
超大规模集成电路
微电子技术
保护集成电路
法律保护
原创性
专有权
分类号
D913 [政治法律—民商法学]
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法律适用
1996年 第7期
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