摘要
用有限元方法结合ANSYS工具,研究了InP/GaAs键合在退火后的热应力分布图像。重点计算并详细讨论了对解键合有重要作用的界面上的剥离力和剪切力。最后分析了影响热应力大小的有关因素。数值分析结果与相关文献实验结果一致。
Thermal stress distribution in wafer bonding of InP/GaAs after annealing is investigated by combining finite element method(FEM) with the ANSYS program. Interficial peeling and shear stresses which play an important role in debonding are calculated and discussed in detail. Finally, the related factors influencing on thermal stress are analyzed. Numerical results agree with experimental ones presented by some references.
出处
《半导体光电》
CAS
CSCD
北大核心
2004年第4期277-280,共4页
Semiconductor Optoelectronics
基金
国家自然科学基金重点项目(90201035)
国家自然科学基金重大研究计划项目 (90 1 0 40 0 3 )
关键词
键合
有限元方法
热应力
wafer bonding
finite element method
thermal stress