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KDP晶体的磁流变抛光工艺研究 被引量：5

Research on Magnetorheological Polishing Process of KDP Crystal
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摘要 研究了磁流变液中水含量对KDP工件表面粗糙度的影响;通过在磁流变液循环系统中控制磁流变液的参数,实现了去除函数的稳定,为修形工艺奠定了基础;在自研的KDMRF-200磁流变机床上进行修形实验,口径为Φ75mm的KDP工件面形精度由0.936λ(PV)收敛到0.321λ(PV),低频误差明显改善。 研究了磁流变液中水含量对KDP工件表面粗糙度的影响;通过在磁流变液循环系统中控制磁流变液的参数,实现了去除函数的稳定,为修形工艺奠定了基础;在自研的KDMRF-200磁流变机床上进行修形实验,口径为Φ75mm的KDP工件面形精度由0.936λ(PV)收敛到0.321λ(PV),低频误差明显改善。
作者 曾育伟 李圣怡 戴一帆 彭小强 胡皓 聂徐庆
机构地区 国防科学技术大学机电工程与自动化学院
出处 《航空精密制造技术》 2012年第4期6-8,31,共4页 Aviation Precision Manufacturing Technology
关键词 KDP晶体 磁流变抛光 表面粗糙度 potassinm dihydengen phosphate crystal magnetorheological finishing surface roughness
分类号 V26 [航空宇航科学与技术—航空宇航制造工程]
  • 相关文献

参考文献6

二级参考文献37

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共引文献37

同被引文献52

引证文献5

二级引证文献12

航空精密制造技术
2012年 第4期

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