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三氯氢硅合成与多晶硅还原尾气全组分干法回收合并新工艺 被引量:1

A new combined technology of dry recovering all components of recycling the exhaust gases from trichlorosilane's synthesis and polysilicon's production
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摘要 针对三氯氢硅(TCS)合成尾气与TCS还原尾气各自独立的干法回收处理工艺特点,提出了TCS合成、还原尾气合并干法回收处理的新工艺。其优势在于,最大限度地利用了氯硅烷特殊的吸收特性与冷热量的充分交换,减轻回收HCl、H_2的负荷,保证了回收效率与质量,降低了设备投资成本,实现了多晶硅尾气全闭路循环处理、物料的部分综合利用。 针对三氯氢硅(TCS)合成尾气与TCS还原尾气各自独立的干法回收处理工艺特点,提出了TCS合成、还原尾气合并干法回收处理的新工艺。其优势在于,最大限度地利用了氯硅烷特殊的吸收特性与冷热量的充分交换,减轻回收HCl、H<sub>2</sub>的负荷,保证了回收效率与质量,降低了设备投资成本,实现了多晶硅尾气全闭路循环处理、物料的部分综合利用。
出处 《化工进展》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第S1期540-542,共3页 Chemical Industry and Engineering Progress
  • 相关文献

参考文献3

  • 1Andreas B,,Rainer W,Lealaw M.Method for producing trichlorosilane[].USal.2004
  • 2Collins W.Silicon Compound-Silicon Halides[]..1985
  • 3AndersonGJ,HoelJO,RongHM,eta1.Methodforproductionoftrichlorosilane,method for production of silicon and silicon for use in the production oftrilchlorosilane[].WOA.2006

同被引文献2

引证文献1

二级引证文献2

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