摘要
实验表明磁流变抛光以其独特的剪切去除机理可用于光学元件亚表面损伤的去除,并且自身不产生新的划痕,同时还可提升光学元件的表面质量,可作为高效加工无损光学元件的一种工艺。
实验表明磁流变抛光以其独特的剪切去除机理可用于光学元件亚表面损伤的去除,并且自身不产生新的划痕,同时还可提升光学元件的表面质量,可作为高效加工无损光学元件的一种工艺。
出处
《航空精密制造技术》
2010年第4期20-23,共4页
Aviation Precision Manufacturing Technology
关键词
磁流变抛光
亚表面缺陷
划痕
magnetorheological finishing
subsurface damage
scratch