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多项目晶圆(MPW)加工介绍
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摘要
高校每年都有许多学生的论文涉及IC设计,由于是研究性论文,一般对工艺水平要求较高,流片费用较高,而且多数是IP核的设计,过去大多数都只做到后验证。现在,我们可以比较方便地采用MPW(Multi Product
作者
来逢昌
机构地区
哈尔滨工业大学微电子中心
出处
《中国集成电路》
2002年第6期60-61,共2页
China lntegrated Circuit
关键词
服务中心
芯片
客户
光刻版
工艺水平
设计与开发
费用
研究性论文
高校
加工厂
分类号
F416.63 [经济管理—产业经济]
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中国集成电路
2002年 第6期
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