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ECR刻蚀设备微机控制系统硬件设计
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摘要
ECR刻蚀设备是利用电子在微波和磁场中的回旋共振效应,在真空条件下形成高密度、高活性的等离子体,进行低温刻蚀的设备。我所研制的ECR刻蚀设备采用了微机/手动控制方式。本文主要介绍了该控制系统硬件电路的实现方法。
作者
刘毅
杨银堂
机构地区
西安电子科技大学
出处
《中国集成电路》
2002年第12期83-84,91,共3页
China lntegrated Circuit
关键词
刻蚀设备
硬件设计
微机控制系统
等离子体
模拟量
手动
误操作
控制方式
控制量
微波源
分类号
TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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1
任泰安,吕春红.
改造国产ICP进行低温刻蚀[J]
.河南机电高等专科学校学报,2005,13(6):1-2.
2
任泰安,吕春红.
用SF_6/O_2气体ICP刻蚀硅深槽基片温度对刻蚀速率的影响[J]
.河南机电高等专科学校学报,2006,14(6):1-3.
被引量:4
中国集成电路
2002年 第12期
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