薄膜光学理论与膜系设计

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摘要 O484.1 2002010455用 FEA 场发射微尖表面的硅化物薄膜=Silicide filmson surface of FEA’s emission tips[刊,中]/季旭东(华东电子管厂.江苏,南京(210028))∥光电子技术.—2000,20(2).—111-115一些硅的化合物具有良好的场发射特性,对这一类硅化物的制作、测量与性能作了说明。

出处《中国光学》 EI CAS 2002年第1期63-68,共6页 Chinese Optics

关键词薄膜厚度国家重点实验室光电子技术金刚石薄膜有机薄膜电致发光光子学物理系有机电致发光薄膜器件光谱分析中科院

分类号 O484.41 [理学—固体物理]

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