摘要
TN305.7 2002053954用于大面积周期性图形制造的激光干涉光刻=Laserinterference photolithography for fabricating periodicpatterns in large area[刊,中]/张锦,郭永康,杜惊雷(四川大学物理系.四川,成都(610064)),冯伯儒,蒋世磊,宗德蓉(中科院光电技术所微细加工光学技术国家重点实验室.四川,成都(610209))//光电工程.—2001。
出处
《中国光学》
EI
CAS
2002年第5期104-105,共2页
Chinese Optics