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光刻工艺:微电子技术的关键
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摘要
微电子技术是衡量一个国家电子工业水平的标志之一,它的发展极大地影响着科学技术的各个领域。现在,这一技术的发展已进入超大规模集成电路研制的阶段,要求在每个芯片上集成10亿个元件,图形线条宽度在0.35μm以下。集成电路主要依靠精细加工技术。
出处
《国际学术动态》
1999年第5期76-77,共2页
International Academic Developments
关键词
微电子技术
光刻工艺
超大规模集成电路
加工技术
线条宽度
科学技术
发展极
电子工业
聚合物
激光刻蚀
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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