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光学镀膜与装置
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摘要
O484.1 99010388等离子体增强热丝CVD法生长cBN薄膜中的衬底效应=Substrate effects in the formation of c—BNsynthesis by plasma assisted hot—filamentchemical vapour deposition[刊,中]/陈光华,严辉(北京工业大学应用物理系.北京(100022)),张兴旺。
出处
《中国光学》
EI
CAS
1999年第1期61-62,共2页
Chinese Optics
关键词
异质外延金刚石膜
人工晶体
等离子体增强
超硬材料
薄膜沉积
应用物理
国家重点实验室
吉林大学
薄膜生长
核化密度
分类号
O484.1 [理学—固体物理]
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中国光学
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