超微细加工及设备

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摘要 TN305.7 98053474 光刻技术的发展动态=Development trend oflithography technology[刊,中]/谢常青(中科院微电子中心。北京(100010))∥半导体情报。—1997,34(6).—12—19介绍了目前几种主流光刻技术,包括光学光刻、电子束光刻、X射线光刻和离子束光剂的发展动态。表4参7(赵桂云)TN305.7 98053475激光雕刻的微机控制系统=System of laser carv—

出处《中国光学》 EI CAS 1998年第5期97-97,共1页 Chinese Optics

关键词发展动态光刻技术激光雕刻机微机控制系统电子束光刻光学光刻离子束系统电子中心超微细加工半导体

分类号 TN305.7 [电子电信—物理电子学]

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