摘要
阐述了深紫外光刻技术和Ｘ射线光刻技术的发展，一些相关单元技术，以及深紫外和Ｘ射线光刻技术的前景。
The development of D UV and x ray microlithographies,some related unit techniques and their prospects are described.
出处
《光电工程》
CAS
CSCD
1997年第S1期104-112,共9页
Opto-Electronic Engineering
关键词
远紫外光刻
X射线光刻
光刻工艺
分辨率
Far ultraviolet lithography,X ray photolithography,Photoetching technology,Resolution.
