摘要
湿法刻蚀对全息微光学元件表面性质的影响曾红军郭履容陈波庞霖（四川大学信息光学研究中心成都６１００６４）浮雕型全息光学元件（ＨＯＥ）在红外光学、自适应光学、光互联等领域有着广泛应用。全息记录材料曝光后，其潜像要经过显影等后处理（湿法刻蚀）才能获得浮雕。...
出处
《大连理工大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1997年第S2期100-100,共1页
Journal of Dalian University of Technology
基金
"九五"国家科技攻关项目
中国科学院成都光电所微细加工国家重点实验室开放课题基金
