用于复制柱面微透镜阵列的铸塑工艺

在光刻热熔成型以及电铸复制得到的柱面微透镜阵列镍模板基础上，采用铸塑工艺得到了高质量的PMMA往面微透镜阵列。文中介绍了静态铸塑的模具设计、工艺过程、参数控制及测试分析。微透镜阵列面形误差小于0．5μum。光刻热熔技术可分为三个步骤：①光刻胶板在掩模的遮蔽下进行紫外曝光；②对已曝光的光刻胶板进行显影和清洗；③热熔成型。