摘要
本文讨论了各向异性腐蚀的机理;硅的各向异性腐蚀设计;双面光刻等与微硅加速度计有关的超精细加工问题。
The mechanism of anisotropic etching the construction design of silicon anisotropic etching and two-side etching technology to produce microaccelerometer have been discussed in the paper.
出处
《中国惯性技术学报》
EI
CSCD
1996年第2期50-53,共4页
Journal of Chinese Inertial Technology