期刊文献+

微硅加速度计的超精细加工 被引量:1

Super-Fine Processing in Silicon Microaccelerometer
下载PDF
导出
摘要 本文讨论了各向异性腐蚀的机理;硅的各向异性腐蚀设计;双面光刻等与微硅加速度计有关的超精细加工问题。 The mechanism of anisotropic etching the construction design of silicon anisotropic etching and two-side etching technology to produce microaccelerometer have been discussed in the paper.
作者 张家跃
出处 《中国惯性技术学报》 EI CSCD 1996年第2期50-53,共4页 Journal of Chinese Inertial Technology
关键词 微硅加速度计 Microaccelerometer
  • 相关文献

同被引文献1

引证文献1

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部