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自催化型化学镀锡铅
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摘要
近年来随着电子工业的发展、电子部件小型化、印制板薄型化和组装密度的提高,过去提供锡铅涂层的方法(热风整平、电镀锡铅)由于厚度不均匀及对某些孤立电路不适用等问题已不能满足要求,因此化学镀将成为新的提供锡铅涂层的方法。化学镀锡铅大多是利用基体金属与锡铅的置换反应,即以基体的溶解反应作为沉积的驱动力。
作者
喻如英
出处
《印制电路信息》
1995年第7期32-44,共2页
Printed Circuit Information
关键词
化学镀锡
自催化
锡铅镀层
基体金属
可焊性
沉积速率
PH值
进行化
置换镀
热风整平
分类号
TQ153 [化学工程—电化学工业]
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印制电路信息
1995年 第7期
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