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高锰酸钾去环氧沾污溶液的正确使用与维护
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摘要
本文简要叙述KMnO_4去环氧沾污的原理、工艺流程,着重从实际应用上谈谈怎样正确使用和维护碱性KMnO_4去沾污溶液,以求较佳的去沾污效果,以便提高高厚径比小孔多层板孔化质量及可靠性。
作者
黄玉文
机构地区
江南计算所
出处
《印制电路信息》
1995年第3期22-23,46,共3页
Printed Circuit Information
关键词
氧沾污
使用与维护
锰酸钾
腐蚀速率
玻璃纤维
去环
可靠性
孔金属化
溶胀剂
多层板
分类号
TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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