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化学镀铜的现状与未来
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摘要
本文对用于印制线路板的导体形成和多层板内层处理等的化学镀铜液的组成和工作条件、反应机理、镀层的特性、快速镀以及非甲醛化等进行了评述。
作者
藤波知之
中南所
荆文丽
李荣
出处
《印制电路信息》
1995年第2期3-10,共8页
Printed Circuit Information
关键词
化学镀铜液
现状与未来
印制线路板
还原剂
稳定剂
络合剂
反应速度
表面活性剂
反应机理
次亚磷酸盐
分类号
TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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印制电路信息
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