有关干膜抗蚀剂极限的探讨

在精细线条印制板的制造过程中,光成像法已愈来愈受到强有力的挑战。尽管光化学本身的精度并不影响细线的制造,但目前的设备、工艺及抗蚀剂本身的的形态却是细线条制造的几大主要障碍。本文介绍了几种比干膜法具有更好的一致性和更高精度的抗蚀剂成型法,并探讨了避免UV光辐射到非曝光区的各种技术,最后又针对高精度图形的特点讨论了水溶性显影的优缺点。