半导体微细加工中的光刻技术

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摘要本文介绍了光刻技术的新进展,分析比较了各种光刻技术的自身优势,展望了它们的前景,探讨了它们在动态随机存取存储器(DRAM)进入G位时代的地位和作用。

作者葛劢翀

机构地区电子工业部第

出处《电子工业专用设备》 1993年第3期8-15,共8页 Equipment for Electronic Products Manufacturing

关键词微细光刻移相光刻 DRAM器件

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电子工业专用设备

1993年第3期

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