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微铂电极上氯离子对铜电沉积及电溶解过程的影响

THE ELECTRODEPOSITION AND ELECTRODISSOLUTION OF COPPER AFFECTED BY CHLORION ON Pt MICROELECTROD
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摘要 本文用循环伏安法研究了硫酸体系中Cu(Ⅱ)在微铂电极上氯离子对其电沉积及电溶解过程的影响.通过对其电化学行为的讨论,作者提出Cu(Ⅱ)在该条件下沉积,及溶解的电化学机制. Using cycling metheod to study that the chlorion affects the electrodeposition and dissolution of copper ions in sulphuricacid.It is discussed and presented for the electrochemiscal mechanism of deposition and dissolution of copper.
作者 冉鸣
出处 《四川师范大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 1992年第4期113-116,共4页 Journal of Sichuan Normal University(Natural Science)
关键词 微铂电极 电沉积及电溶解 copper microelectrod electrodeposition and elecctrodissolution
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