直流磁控溅射镀膜实验条件的选择被引量：4

CHOICES ON EXPERIMENTED CONDITIONS OF DC MAGNATRON SPUTTERING FILMS

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摘要介绍一台改制的直流以磁控溅射镀膜机用于溅射镀膜实验 ,选择实验条件 ,观察实验现象。 A modified DC magnetron sputtering coating machine which was employed in sputtering films experiments was introduced.Multi-layer films were prepared through observing experimental phenomena and selecting experimental conditions.

作者吴桂芳赵青生

机构地区安徽大学

出处《大学物理实验》 2004年第2期25-27,共3页 Physical Experiment of College

关键词高等教育物理实验教学直流磁控溅射镀膜实验条件多层薄膜辉光放电 sputtering films glow discharge multi-layer films.

分类号 O484-45 [理学—固体物理] O484.1 [理学—固体物理]

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