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TiO_2薄膜光催化用于空气灭菌净化 被引量:5

Nano-TiO_2 thin film by magnetic sputtering for photocatalyst utilization
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摘要  用抛光铝合金作衬底在平行孪生靶的磁控溅射设备中制备出二氧化钛薄膜,薄膜厚度为500nm,XRD测量表明二氧化钛薄膜为锐钛矿型(anatase)。该薄膜在紫外光源照射下,对甲苯、苯、二氧化硫及香烟气体有良好的降解作用;对大肠杆菌、金黄色葡萄糖菌有良好的去除作用。 TiO2 thin film with the depth of 500 nm was fabricated by using sputter method on alloy aluminum substrate. XRD measurement shows that the TiO2 film was at different anastasia phases. While photo of SEM measurement shows it's grain size was in the range of 30-50 nm. Under ultraviolet light, volatile organic compounds (benzene, toluene, formaldehyde, etc.) were gradually degraded. The smoking gas and SO2 gas were destroyed to 98.7% and 82.4% after an hour, respectively. After l0 min the removing efficiency of TiO2 film to bacteria was up to 100%.
出处 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第4期489-490,494,共3页 Journal of Functional Materials
关键词 磁控溅射 二氧化钛薄膜 锐钛矿 光催化 Aluminum alloys Bacteria Benzene Formaldehyde Grain size and shape Magnetron sputtering Photocatalysis Scanning electron microscopy Smoke Substrates Sulfur dioxide Thin films Titanium dioxide Toluene Ultraviolet lamps Volatile organic compounds X ray diffraction analysis
  • 相关文献

参考文献4

二级参考文献8

  • 1钱逢麟 竺玉书.涂料助剂--品种和性能手册[M].北京:化学工业出版社,1997.555-588.
  • 2戴清.高效低耗催化氧化体系及其降解有机污染物的应用研究[M].南京:东南大学,1999..
  • 3孙奉玉,催化学报,1998年,19卷,121页
  • 4李新勇,博士学位论文,1996年
  • 5Lee W,Mater Res Bull,1992年,27卷,685页
  • 6Meng L J,Thin Solid Films,1993年,226卷,22页
  • 7Meng L J,Thin Solid Films,1993年,223卷,242页
  • 8罗菊,丁星兆,程黎放,马学鸣,董远达.粉末的结构[J]材料科学进展,1993(01).

共引文献240

同被引文献66

引证文献5

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