浸入式光刻技术取得重大突破
-
1国内首台自主知识产权“光刻机”面世[J].军民两用技术与产品,2008(1):29-29.
-
2国内首台自主知识产权直写式光刻机将在肥面世[J].安徽科技,2007(12):29-29.
-
3国内首台自主研发“光刻机”在合肥面世[J].中国科技投资,2008(3):12-12.
-
4国内首台自主研发光刻机面世[J].激光与光电子学进展,2008,45(2):37-37.
-
5国内首台完全自主知识产权“光刻机”合肥面世[J].合肥科技,2007(12):6-6.
-
6国内首台自主知识产权“光刻机”面世[J].新材料产业,2008(2):75-76.
-
7我国首台拥有自主知识产权精密光刻机问世[J].发明与创新(大科技),2008(2):38-38.
-
8章从福.国产首台直写式光刻机在合肥问世[J].半导体信息,2008,0(1):1-1.
-
9新产品·新技术[J].中国信息导报,2007(11):64-64.
-
10我国首台精密光刻机问世[J].信息技术与信息化,2008(1):12-12.
;