高频等离子体加热技术及设备
出处
《科技开发动态》
1995年第4期14-14,共1页
R&D Information
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1王翔,高炀,黎明,高跃生.高频等离子设备的技术应用[J].科技资讯,2010,8(30):3-3.
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2王翔,黎明,高跃生,高炀.高频等离子法制备球形硅微粉的工艺研究[J].科技资讯,2010,8(29):31-32. 被引量:9
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3白柳杨,袁方利,胡鹏,李晋林,唐清.高频等离子体法制备微细球形镍粉的研究[J].电子元件与材料,2008,27(1):20-22. 被引量:11
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