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光刻技术及其战略选择
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摘要
光刻是集成电路及其它半导体器件制造的核心工艺,号称关键性和战略性技术。本文首先对光刻的概念及其相关词语的含义进行了探讨,试图澄清一些模糊的认识,而后简要地回顾了光刻技术发展的历史教训,重点讨论90年代的光刻技术及其最佳选择。
作者
刘多勤
机构地区
中国电子进出口总公司海南公司
出处
《电子工业专用设备》
1993年第1期1-8,24,共9页
Equipment for Electronic Products Manufacturing
关键词
光刻
光刻机
集成电路
半导体器件
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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