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光致抗蚀剂电沉积技术
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摘要
对制造细线图形印制板使用的新的光致抗蚀剂电沉积技术的原理、电极反应、工艺过程及其使用装置进行了论述,可适用于大量生产5线/2.54mm的细线印制板。
作者
蔡积庆
出处
《电子工艺技术》
1993年第6期37-39,共3页
Electronics Process Technology
关键词
光致抗蚀剂
电沉积
印刷电路板
分类号
TN430.598 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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电子工艺技术
1993年 第6期
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