期刊文献+

单晶硅各向异性湿法腐蚀机理的研究进展 被引量:16

Research Development on Wet Anisotropic Etching Mechanism of Crystal Silicon
下载PDF
导出
摘要 介绍了硅各向异性腐蚀的含义、特点、用途以及常用的腐蚀剂等基本要素 ;着重论述了试图解释硅各向异性腐蚀行为的几种典型机理 。 The meanings,characteristics,purposes of the anisotropic etching of silcon and frequently used etchants etc.are introduced. And especially the explanations of anisotropic etching mechanisms of crystal silicon are emphasized on. Then a survey of the analysis on the etching mechanisms refered is made.
出处 《化工时刊》 CAS 2004年第6期1-4,24,共5页 Chemical Industry Times
关键词 硅腐蚀技术 各向异性 湿法腐蚀 腐蚀机理 单晶硅 腐蚀剂 silicon anisotropy wet etching
  • 相关文献

参考文献23

  • 1黄庆安.硅微机械加工技术,北京:科学出版社.(1996)
  • 2K.E. Bean, ibid, ED-25,1185(1978)
  • 3E. Bassous,ibid, ED - 25,1178(1978)
  • 4K.E. Petersen,ibid,ED-251241 (1978)
  • 5K.E. Petersen, Proc. IEEE, 70,120(1982)
  • 6H. Seidel, L. Csepregi, SensorS and Actuators, 1,155 (1983)
  • 7M.A. Gosdlvez, AnisotropiC etchlng (2003)
  • 8E.D. Palik, J. Electrochem. Soc. 132(4) ,871 (1985)
  • 9E.D. Palik,J. Electrochem. Soc. 130(4) ,956(1983)
  • 10J.B. Price, Semiconductor. Silicon. 339(1973)

同被引文献126

引证文献16

二级引证文献37

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部