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Ta/Al合金薄膜中功率衰减器的研究 被引量:3

ON A MIDDING-POWER TA/AL THIN FILM ATTENUATOR
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摘要 介绍了一种用于微波电路的中功率薄膜衰减器。该衰减器是由铝原子含量为50%的Ta/Al合金薄膜制成。其性能优良。 This paper describes a middling-power thin Film attenuator used for microwave circuits. The attenuator is made from a Ta/Al thin film which contains aluminium of 50%.It is shown that the attenuator has higher performances.
出处 《电子科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1993年第2期203-206,共4页 Journal of University of Electronic Science and Technology of China
关键词 薄膜集成电路 衰减器 微波衰减器 thin film integrated circuit Tantalum-base attenuator microwave attenuators middling-power
  • 相关文献

同被引文献4

  • 1任露泉,试验优化技术,1987年
  • 2贾宇明,1989年
  • 3杨邦朝,SPIE .1519,1991年,156页
  • 4任露泉,试验优化技术,1987年,68页

引证文献3

二级引证文献4

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