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Morphological study of the localized growth of materials in dielectric barrier discharge 被引量:2

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出处 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2004年第7期1076-1081,共6页 中国物理B(英文版)
  • 相关文献

参考文献7

  • 1Kogelschatz U, Eliasson B and Egli W 1997 J. Phys. IV France 7 C4-47.
  • 2Boeuf J P, Punset C, Hirech A and Doyeux H 1997 J.Phys. IV France 7 C4-3.
  • 3Dong L F, Yin Z Q, Li X C and Wang L 2003 J. Electrostar. 57 243.
  • 4Dong L F, Li X C, Yin Z Q, Qian S F and Wang L 2001 Chin. Phys. Lett. 18 1380.
  • 5Eliasson B 1991 IEEE Trans. Plasma Sci. 19 1063.
  • 6Jiang N, Qian S F, Wang L and Zhang H X 2001 Thin Solid Films 390 119.
  • 7Yang J J 1983 Gas Discharge (Beijing: Science Press) pl16.

同被引文献27

引证文献2

二级引证文献18

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