衍射光学元件大量复制新方法

介绍衍射光学元件的两种制造方法。第一种是模拟直写法。在光学对准仪上用高能束敏玻璃灰度掩模使镀在基片上的模拟光致抗蚀剂曝光，显影后用化学辅助离子束一步蚀刻，将光致抗蚀剂上的模拟剖面形状转制在基片上。第二种是在玻璃表面模压复制，着重介绍母模的金刚石切削工艺，详细描述复制工艺过程，给出实验试制结果。最后分析环带形位误差对衍射光学元件性能的影响。