期刊文献+

超导体——真空界面的潜力

THE DATENT CAPABILITY OF INTERFACE BETWEEN SUPERCONDUCTOR AND VACUUM
下载PDF
导出
摘要 电子在超导体和真空中运动速度极快,采用现有的半导体技术可研制超导体——真空——超导体——真空——超导体的三端器件会获得速度极快、功耗极低、抗辐射、耐低温、可集成的种种优点,本文将讨论它的可能性和某些特点。 The electron motion velocity is fast extremely in vacuum. Applying the modern semiconductor technology could explore a Superconductor Vacuum-Superconductor-Vacuum-Superconductor three-terminal device and it could obtain velocity fast extremely, dissipation extremely low and radiation-proof , suitable to low temperature , integratable and so forth merits. The possibility and some features of this device are discussed in this article.
机构地区 湖南大学物理系
出处 《低温与超导》 CAS CSCD 北大核心 1989年第3期39-42,共4页 Cryogenics and Superconductivity
  • 相关文献

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部