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PTH制程的稳定性控制 被引量:1

Control of PTH Process
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摘要 简单介绍了碱性离子钯活化体系在PTH制程中的应用,通过正交试验优化PTH重要工艺参数。介绍了PTH常见故障及其排除方法,分析了多层线路板生产中去钻污段调整对化学沉铜过程的可能影响机理。阐述了PTH制程中去钻污对背光稳定性的贡献及传统PTH制程对高厚径比板件孔金属化过程的控制方向。 The paper briefly introduces the application of ionic activator system based on alkaline organic Pdcomplex in PTH process.Some key parameters in the PTH process are optimized by DOE, some troubles shooting in common are exampled while the possibility mechanism of the conditioner is analyzed after etchback in multi-layer board process. In this paper,we also discussed the desmear's contribution to back-light mantitude and methods to control high aspect Ratio PCB metalization in traditional PTH process.
作者 孙光炜
出处 《印制电路信息》 2004年第7期28-31,共4页 Printed Circuit Information
关键词 PTH 去钻污 背光 化学镀铜 厚径比 多层线路板 PTH desmear back-light electroless copper aspect ratio
  • 相关文献

参考文献1

  • 1洪爱娜.化学镀铜[J].电路板会刊,:32-32.

同被引文献3

引证文献1

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