期刊文献+

腐蚀开孔和二电极装置体系在电沉积镍—氧化铝纳米阵列中的应用

ELECTRODEPOSITION OF NICKEL NANO-ARRAY ON PORE-FILM OF ALUMINA
下载PDF
导出
摘要 分析了金属 -氧化铝纳米阵列直流电沉积重要工序之一的模板腐蚀开孔的实验影响因素 ;对二电极实验装置体系在直流电沉积镍 -氧化铝纳米阵列的应用可能性进行讨论并做了实验验证 . Nano-array of nickel-alumina was fabricated by electrodeposition of nickel on pore-film of alumina,which was stripped from an anodic treated pure aluminum plate.The influence of procedures for openning through-pore on the alumina film and the electrodeposition parameters on the formation of the nano-arroy of Ni-Al_2O_3 were discussed.
出处 《腐蚀科学与防护技术》 CAS CSCD 北大核心 2004年第4期243-244,共2页 Corrosion Science and Protection Technology
基金 河海大学科技创新基金 (NO .10 46-4 0 3 10 1)
关键词 氧化铝模板 纳米阵列 直流电沉积 电沉积 腐蚀开孔 二电极装置体系 alumina film nano-array direct current electrodeposition
  • 相关文献

参考文献1

二级参考文献1

  • 1覃东欢 彭勇 王成伟.物理学报 (Wuli Xuebao),2000,50(1):144-144.

共引文献8

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部