期刊文献⁺

任意字段

题名或关键词

题名

关键词

文摘

作者

第一作者

机构

刊名

分类号

参考文献

作者简介

基金资助

栏目信息

点源投影X射线光刻

下载PDF

导出

作者 Arty.,LA 任延同

出处《光机电世界》 1993年第3期1-16,共16页

关键词微电子学点源投影 X射线光刻

分类号 TN405.7 [电子电信—微电子学与固体电子学]

引文网络
相关文献

1袁明文.X射线光刻现状[J].半导体情报,1991,28(4):17-22.
2谢丹.LIGA技术──制造微结构匠最新技术[J].光的世界,1993(1):10-11.
3刘泽文,田扬超,胡一贯,阚娅.同步辐射X射线光刻初步实验结果[J].科学通报,1994,39(6):572-573.
4谢常青,叶甜春,陈梦真.193nm与x射线光刻技术比较[J].半导体技术,1998,23(4):1-4. 被引量：2

光机电世界

1993年第3期

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...

;

使用帮助返回顶部