从1992年SPIE国际会议看国外光学工艺与检测的发展新动向

作者于1992年6月参加了在日本东京举行的光学制造、光学与光学表面平价的国际学术讨论会(SPIE Japan Chapter),会议刊出83篇论文,宣读了75篇。会议代表来自美国、德国、英国、瑞士、中国(包括台湾)及日本等国家。会议论文将SPIE Proceedings Vol.1720全文发表。论文宣读在6月10～12日三天内进行,分光学制造与光学设备、光学表面计量、X光光学、现代干涉计量学与现代光学工艺五个部分,分12个会议场次进行,结合我国情况,归纳如下几个方面,以便了解光学工艺与检测在国际上的发展新动向。1.非球面加工技术及设备,包括天文望远镜大型镜面、X光光学用非轴对称非球面及照相镜头、光盘中小型非球面的加工,一般均用数控或微机控制的专用超精机床加工。2.超光滑光学表面的制造与检测仪器,用EEM抛光头及柏油抛光头使石英平面的粗糙度达到1.7(?)rms,研究与生产表面度的美国著名公司WYKO、CHAPMAN到会报导了扫描探针显微镜测量表面粗糙度的特点等。3.测量面形的位相测量干涉仪及波带板干涉仪测量非球面,应用很普遍,重点在于研究如何提高仪器测量的精度。4.采用门封法制造塑料精密透镜,使注射成型透镜的面形达0.26μmPV值。5.光学零件应力双折射分布的二维测量,由于光计算机需要光学件的其他特性与光盘的塑料物镜需作双折射检查,故发展了面测量双折射值的一些方法。6.二元光学器件的制造与检测。