金刚石的热等离子体化学汽相沉积的工艺研究第Ⅱ部分：…
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2卢兆伦.在钽衬底上生长金刚石薄膜[J].杭州大学学报（自然科学版）,1993,20(2):240-241.
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3顾长志,王春蕾,金曾孙,吕宪义,邹广田.电子增强化学气相沉积法制备金刚石膜[J].高压物理学报,1994,8(3):220-223. 被引量：4
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7Kohza.,M,巴兵.用RF诱发热等离子体化学汽相沉积方法高速沉积大面积金刚石[J].国外核聚变与等离子体应用,1994(4):70-72.
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8任侠.等离子体化学气相沉积及其在沉积超硬膜方面的应用[J].物理,1992,21(12):742-746.
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9吴振宇,杨银堂,汪家友.用ECR-CVD方法制备SiO_2薄膜[J].真空电子技术,2004,17(6):48-50.
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10唐璧玉,靳九成,靳浩,颜永红,李绍绿,夏金童,陈小华,陈宗璋.化学汽相沉积金刚石薄膜的生长[J].材料研究学报,1997,11(3):334-336. 被引量：3
