几种先进光刻方法的比较

随着集成电路功效越来越多,电路特征尺寸变得越来越小,超过制造电路图样的微光刻系统的分辨率和极限精度。今后几年,研究人员将寻求可使集成电路特征尺寸小至0.25μm的经济有效的光刻法。这些方法采用紫外光子。